Rechtsprechung / BPatG / 2003
BPatG Beschluss vom 30.09.2003 – 23 W (pat) 39/02
23. Senat
BUNDESPATENTGERICHT
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(Aktenzeichen)
Verkündet am
30. September 2003
…
B E S C H L U S S
In der Beschwerdesache
…
betreffend das Patent 195 03 205
hat der 23. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts auf
die mündliche Verhandlung vom 30. September 2003 unter Mitwirkung des Richters Dr. Meinel als Vorsitzendem sowie der Richter Dr. Gottschalk, Knoll und
Dr. Häußler 6.70
beschlossen:
Die Beschwerde der Patentinhaberin wird zurückgewiesen.
G r ü n d e
I.
Die Prüfungsstelle für Klasse H05H des Deutschen Patent- und Markenamts hat
auf die am 2. Februar 1995 eingereichte Patentanmeldung das am 11. Juli 1996
veröffentlichte Patent 195 03 205 mit der Bezeichnung „Vorrichtung zur Erzeugung
von Plasma“ (Streitpatent) erteilt.
Die Patentabteilung 52 des Deutschen Patent- und Markenamts hat nach Prüfung
eines für zulässig erklärten Einspruchs, der am 9. Oktober 1996 beim Deutschen
Patent- und Markenamt eingegangen war, das Patent mit Beschluß vom
14. Mai 2002 widerrufen.
Zur Begründung ist ausgeführt, daß der Gegenstand des erteilten Patentanspruchs 1 gegenüber dem Stand der Technik nach den Entgegenhaltungen
-
-
deutsche Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1) und
deutsche Offenlegungsschrift 37 36 917 (Druckschrift 5)
nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit beruhe.
Im Einspruchsverfahren ist zum Stand der Technik u.a. noch die
-
deutsche Patentschrift 39 26 023 (Druckschrift 6)
in Betracht gezogen worden.
Gegen den vorgenannten Beschluß richtet sich die Beschwerde der Patentinhaberin.
Der Konkursverwalter der Einsprechenden hat mit Schriftsatz
vom
1. Oktober 2002 mitgeteilt, daß das Konkursverfahren am 19. Dezember 2001
abgeschlossen worden sei, die Einsprechende also nicht mehr bestehe, und daß
er den Einspruch zurückziehe.
In der mündlichen Verhandlung hat die Patentinhaberin das Streitpatent mit den
erteilten Unterlagen verteidigt und die Auffassung vertreten, daß der Gegenstand
des erteilten Patentanspruchs 1 gegenüber dem im Verfahren befindlichen Stand
der Technik patentfähig sei.
Die Patentinhaberin stellt den Antrag,
den Beschluß der Patentabteilung 52 des Deutschen Patent- und
Markenamts vom 14. Mai 2002 aufzuheben und das Patent aufrechtzuerhalten.
Der geltende erteilte Patentanspruch 1 lautet:
„Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen Wechselfeldern, wobei
ein stabförmiger Leiter innerhalb eines Rohres aus isolierendem
Werkstoff durch den Unterdruckbehälter geführt ist, wobei der Innendurchmesser des Rohres größer als der Durchmesser des
Leiters ist, und wobei das Rohr an beiden Enden durch Wände
des Unterdruckbehälters gehalten und gegenüber den Wänden an
seiner Außenfläche abgedichtet ist, dadurch gekennzeichnet,
daß der Leiter (5) an beiden Enden an Quellen (6, 7) zur Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder angeschlossen ist.“
Wegen der geltenden erteilten Unteransprüche 2 bis 16 wird auf die Streitpatentschrift und wegen der weiteren Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen.
II.
Die zulässige Beschwerde der Patentinhaberin ist nicht begründet, denn der Gegenstand des geltenden Patentanspruchs 1 erweist sich nach dem Ergebnis der
mündlichen Verhandlung als nicht patentfähig.
1. Gegen die nach ständiger höchstrichterlicher Rechtsprechung (vgl z.B. BGH
GRUR 1997, 740 liSp letzter Abs - "Tabakdose" mwNachw.) seitens des Senats
von Amts wegen zu überprüfende - von der Patentinhaberin im übrigen nicht bestrittene - Zulässigkeit des Einspruchs bestehen keine Bedenken.
2. Nach den Angaben der Patentinhaberin (Schriftsatz vom 23. Januar 1996,
Seite 1, Absatz 1) wird im Oberbegriff des erteilten Patentanspruchs 1 des
Streitpatents von einer Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma in einem
Unterdruckbehälter mit Hilfe von elektromagnetischen Wechselfeldern ausgegangen, wie sie aus der vorstehend genannten deutschen Offenlegungsschrift
41 36 297 (Druckschrift 1) bekannt ist (vgl. dort den Unterdruckbehälter
(Behandlungskammer 25), den stabförmigen Leiter (Innenleiter 3), in den
Mikrowellen von einer Mikrowellen-Erzeugungseinrichtung (11) eingekoppelt
werden, das Rohr (Führungshohlleiter 2) aus isolierendem Werkstoff und die
Rohr-Abdichtung (O-Ring-Dichtung 6) im Anspruch 1 iVm der Fig. 4 nebst der
dazugehörigen Beschreibung in Spalte 7, letzter Absatz bis Spalte 8, Absatz 1 und
Spalte 6, Zeilen 18 bis 24 zur Fig. 1).
Gemäß der Streitpatentschrift (Spalte 1, Absätze 3 und 4) ist bei dieser bekannten
gattungsgemäßen Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma von Nachteil,
-
daß mit zunehmender Entfernung von demjenigen Rand der Behandlungskammer, an dem die Mikrowellen eingekoppelt werden, die Energiedichte
und
damit die Plasmadichte abnimmt, für die Behandlung von Werkstücken jedoch eine möglichst räumlich vorgebbare, beispielsweise homogene,
Mindest-Plasmadichte erforderlich ist, und
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daß ferner die in Form von Mikrowellen zugeführte Leistung nicht beliebig
steigerbar ist, weshalb häufig nicht der gesamte durch die Behandlungskammer gegebene Raum zur Behandlung genutzt werden kann, wobei dies
insbesondere bei Werkstücken gilt, die in Durchlaufanlagen auf einem
Fließband durch die Behandlungskammer geführt werden.
Vor diesem Hintergrund liegt dem Streitpatentgegenstand als technisches Problem die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma anzugeben, welche innerhalb eines vorgegebenen Bereichs eine ausreichende
Ionisierung aufweist (Streitpatentschrift, Spalte 1, Absatz 5).
Diese Aufgabe wird bei einer gattungsgemäßen Vorrichtung zur Erzeugung von
Plasma mit dem Merkmal nach dem kennzeichnenden Teil des erteilten Patentanspruchs 1 des Streitpatents gelöst. Denn dadurch, daß der Leiter (5) an beiden
Enden an Quellen (6, 7) zur Erzeugung der elektromagnetischen Wechselfelder
angeschlossen ist, kann der bei der bekannten gattungsgemäßen Vorrichtung zur
Erzeugung von Plasma nach der deutschen Offenlegungsschrift 41 36 297
(Druckschrift 1) auftretende Abfall des Ionisierungsgrades in Längsrichtung des
Leiters derart ausgeglichen werden, daß bei gleicher Intensität der zugeführten
Wechselfelder ein weitgehend homogener Verlauf der Plasmadichte bei doppelter
Gesamtleistung erzielbar ist, bei ungleicher Wechselfelder-Intensität hingegen ein
davon abweichender Plasmadichte-Verlauf - beispielsweise eine mehr oder weniger starke, etwa lineare Zunahme von einem Ende zum anderen Ende des Unterdruckbehälters - einstellbar ist (Streitpatentschrift, Spalte 1, letzter Absatz bis
Spalte 2, Absatz 2).
Beim Gegenstand des erteilten Patentanspruchs 1 entsteht - wie bei der bekannten gattungsgemäßen Plasma-Erzeugungsvorrichtung nach der deutschen Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1) (Spalte 2, Zeilen 34 bis 45 iVm der
Streitpatentschrift, Spalte 1, Absatz 3) - durch das Leitendwerden des ionisierten
Gases an der Außenwand des Rohres (4) aus isolierendem Werkstoff eine Art
Koaxialleitung - mit dem stabförmigen Leiter (5) als Innenleiter und mit dem
Plasma als dazu koaxialem Außenleiter -, die die eingekoppelten Hochfrequenzwellen - insbesondere Mikrowellen (erteilter Patentanspruch 2) - im Ringraum zwischen Innen- und Außenleiter weiterleitet und dabei als Antenne wirksam ist, die
Hochfrequenzwellen in den Unterdruckbehälter (1) abgibt (vgl. hierzu den Schriftsatz der Patentinhaberin vom 10. Juni 1998, Blatt 3, letzter Absatz bzw. die Beschwerdebegründung vom 13. September 2002, Blatt 3, Absatz 2). Die die Koaxialleitung mit Hochfrequenzwellen versorgenden Generatoren (6, 7) können
beim Streitpatentgegenstand an zwei Kupferrohre (10) angeschlossen sein, zwischen denen sich der aus Plasma bestehende Außenleiter der Koaxialleitung
ausbildet (Streitpatentschrift, Spalte 4, Absatz 4 zu den Figuren 1 und 2).
3. Die Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma nach dem geltenden erteilten Patentanspruch 1 ist zwar im Hinblick auf den im Verfahren befindlichen Stand der
Technik neu und auch gewerblich anwendbar; jedoch beruht sie gegenüber dem
Stand der Technik nach den Entgegenhaltungen
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-
deutsche Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1) und
deutsche Patentschrift 39 26 023 (Druckschrift 6)
nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit des zuständigen Durchschnittsfachmanns,
der hier als ein mit der Entwicklung und Herstellung von Plasmavorrichtungen insbesondere für die Oberflächenbearbeitung von Werkstücken befaßter, berufserfahrener Physiker oder Elektroingenieur mit Universitätsausbildung zu definieren
ist.
Die deutsche Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1), von der - wie dargelegt - im Oberbegriff des erteilten Patentanspruchs 1 ausgegangen wird, führt den
Fachmann gemäß einem Ausführungsbeispiel zwar insofern in eine andere Richtung, als sie zur Kompensation der in Rede stehenden Abnahme der Plasmadichte eine Verringerung des Durchmessers des Isolierrohres (2) mit zunehmendem Abstand von derjenigen Wand des Unterdruckbehälters (25) nahelegt, durch
die die Mikrowellen eingekoppelt werden (Fig. 6 mit zugehöriger Beschreibung in
Spalte 8, Absatz 4).
Andererseits betrifft die deutsche Patentschrift 39 26 023 (Druckschrift 6) jedoch
ein Plasma-Beschichtungsverfahren (CVD-Beschichtung mit zugehöriger Vorrichtung), bei dem (der) zur Erzeugung des Plasmas eine Koaxialleitung an zumindest
einem Ende mit Hochfrequenzwellen (hochfrequente Strahlung) beaufschlagt wird
(Ansprüche 1 und 14 iVm den Ausführungsbeispielen nach den Figuren 1 bis 5),
wobei es dort ausdrücklich heißt, daß bei Zuführung der hochfrequenten Strahlung
(Mikrowellenenergie) an beiden Enden - entsprechend der dortigen Fig. 2 - die
Homogenität der Schichtabscheidung - d.h. für den Fachmann implizit auch die
Homogenität der Plasmadichte - erhöht werden kann (Spalte 8, Zeilen 1 bis 4). Die
Koaxialleitung besteht dabei - insoweit in Umkehr zum Gegenstand des erteilten
Patentanspruchs 1 des Streitpatents, bei dem das Plasma den Außenleiter der
Koaxialleitung bildet - aus einem Innenleiter aus Plasma, nämlich in einem Rohr
aus dielektrischem Material (Abschirmung 7), und aus einem dazu konzentrischen
Außenleiter aus elektrisch leitendem Material (rohrförmiger Außenleiter 3) (vgl. die
Figuren 1 und 2 mit zugehöriger Beschreibung in Spalte 5, Zeilen 28 bis 55). Die
die Koaxialleitung an beiden Enden mit Hochfrequenzwellen versorgenden Mikrowellenresonatoren (16) sind hierbei - insoweit entsprechend dem Streitpatentgegenstand - an zwei Metallrohre (rohrförmige Innenleiter 10) angeschlossen,
zwischen denen sich der aus Plasma bestehende Innenleiter der Koaxialleitung
ausbildet (Spalte 5, Zeilen 48 bis 55 zur Fig. 2).
Es beruht nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit, wenn der Fachmann die aus der
deutschen Patentschrift 39 26 023 (Druckschrift 6) bekannte Problemlösung
(beidendiger Anschluß einer Koaxialleitung an Hochfrequenz-Generatoren) lediglich zu ihrem bekannten vorteilhaften Zweck (Erhöhung der Homogenität der
Plasmadichte) auch bei der bekannten gattungsgemäßen Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma nach Fig. 4 der deutschen Offenlegungsschrift 41 36 297
(Druckschrift 1) anwendet, womit er bereits ohne erfinderisches Zutun zum Gegenstand des erteilten Patentanspruchs 1 des Streitpatents gelangt. Entgegen der
von der Patentinhaberin in der mündlichen Verhandlung vertretenen Auffassung
steht dem insbesondere nicht entgegen, daß gemäß der deutschen Patentschrift
39 26 023 (Druckschrift 6) der Innenleiter, beim Streitpatentgegenstand hingegen
umgekehrt - insoweit entsprechend der gattungsbildenden deutschen Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1) - der Außenleiter der Koaxialleitung vom
Plasma gebildet wird. Denn der Fachmann braucht zur Anpassung der Problemlösung nach der deutschen Patentschrift 39 26 023 (Druckschrift 6) an die insoweit
abweichenden Gegebenheiten der gattungsgemäßen Plasmavorrichtung nach der
deutschen Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1) nur die gemäß der deutschen Patentschrift 39 26 023 (Druckschrift 6) zur Bildung des Plasma-Innenleiters
vorgesehenen Metallrohre (10) - mit angeschlossenen Hochfrequenz-Generatoren
(16) - bei der Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma nach Fig. 4 der deutschen
Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1) stattdessen zur Bildung des
Plasma-Außenleiters heranzuziehen.
Soweit die Patentinhaberin in der mündlichen Verhandlung als Indizien für das
Vorliegen einer erfinderischen Tätigkeit den Zeitfaktor und den mit dem Streitpatentgegenstand erzielten wirtschaftlichen Erfolg geltend gemacht hat, vermag dies
insofern nicht zu greifen, als die Erfindung - wie dargelegt – dem Fachmann durch
den Stand der Technik nahegelegt ist (vgl. hierzu BGH BlPMZ 1964, 121, 123
- „Wimpernfärbestift“; GRUR 1967, 25, 29 - „Spritzgußmaschine III“).
Die Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma nach dem erteilten Patentanspruch 1
ist demnach mangels einer erfinderischen Tätigkeit gegenüber dem Stand der
Technik nach der deutschen Offenlegungsschrift 41 36 297 (Druckschrift 1) und
der deutschen Patentschrift 39 26 023 (Druckschrift 6) nicht patentfähig.
4. Mit dem verteidigten Patentanspruch 1 fallen auch die darauf zurückbezogenen
erteilten Unteransprüche 2 bis 16. Einen eigenständigen erfinderischen Gehalt hat
die Patentinhaberin für diese echten Unteransprüche im übrigen nicht geltend
gemacht.
Dr. Meinel
Dr. Gottschalk
Knoll
Dr. Häußler
Pr