BPatG Beschluss vom 13.08.2004 – 14 W (pat) 336/03

BUNDESPATENTGERICHT

14 W (pat) 336/03 _______________________

(Aktenzeichen)

B E S C H L U S S

In der Einspruchssache

betreffend das Patent 197 40 793

… 10.99

hat der 14. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts in

der Sitzung vom 13. August 2004 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters

Dr. Schröder, der Richter Dr. Wagner und Harrer sowie der Richterin Dr. Schuster

beschlossen:

Das Patent 197 40 793 wird widerrufen.

G r ü n d e

I

Die Erteilung des Patents 197 40 793 mit der Bezeichnung

"Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mittels einer

Anlage mit Sputterelektroden und Verwendung des Verfahrens"

ist am 20. März 2003 veröffentlicht worden. Es umfaßt 29 Patentansprüche, von

denen Anspruch 1 wie folgt lautet:

"Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mittels einer

Anlage, die zumindest zwei beabstandet zueinander und innerhalb einer Prozesskammer angeordnete Sputterelektroden und einen Einlass für ein Prozessgas aufweist, wobei

mindestens ein zu beschichtendes Substrat zwischen den

mindestens zwei Elektroden angeordnet wird, die Elektroden

mit einer bipolar gepulsten Spannung beaufschlagt werden,

derart, dass sie alternierend als Kathoden und Anoden betrieben werden und zur gleichen Zeit jeweils nur eine von

zwei sich im Wesentlichen einander gegenüberstehenden

Elektroden als Kathode arbeitet, die Frequenz der Spannung

zwischen 1 kHz und 1 MHz eingestellt wird und die Betriebsparameter so gewählt werden, dass die Elektroden im Betrieb zumindest bereichsweise von einem Beschichtungsmaterial bedeckt werden."

Zum Wortlaut der Ansprüche 2 bis 28, die besondere Ausführungsformen des

Verfahrens nach Anspruch 1 betreffen, sowie des Anspruchs 29, der auf die Verwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 28 gerichtet ist, wird auf

die Streitpatentschrift verwiesen.

Gegen das Patent ist am 17. Juni 2003 Einspruch erhoben worden. Der Einspruch

ist auf die Behauptung gestützt, der Gegenstand des Streitpatents sei gegenüber

dem ua durch

(D1)

(D3)

38 02 952 C2 und

S. Schiller et al., Potenzen des Puls-Magnetron-

Sputterns (PMS), Vakuum in Forschung und Praxis

(1995), Nr. 4, Seiten 286 bis 292

belegten Stand der Technik nicht patentfähig.

Die Einsprechende beantragt,

das Streitpatent zu widerrufen.

Eine Erwiderung auf das Einspruchsvorbringen ist nicht zur Akte gelangt, dementsprechend liegt kein Antrag der Patentinhaberin vor.

Wegen weiterer Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen.

II

Der Einspruch ist frist- und formgerecht erhoben und mit Gründen versehen. Er

führt zum Widerruf des Patents.

Gegen die Zulässigkeit des Anspruchs 1 bestehen keine Bedenken.

Die Maßnahmen dieses Anspruchs sind im ursprünglichen Anspruch 1 iVm Seite 3

letzter Absatz und Seite 16 Absatz 3 der ursprünglichen Beschreibung offenbart.

Das beanspruchte Verfahren beruht jedoch nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit.

Aus (D1) ist die Beschichtung von Oberflächen mittels einer Anlage bekannt, welche zwei beabstandet zueinander und innerhalb einer Prozeßkammer (Kessel 3)

angeordnete Sputterelektroden und einen Einlaß für ein Prozeßgas aufweist, wobei ein zu beschichtendes Substrat zwischen den zwei Elektroden angeordnet ist

(Ansprüche 1 und 2 iVm Fig 1 und 2 sowie Sp 3 Z 5 bis 9). Die beiden Elektroden

werden mit gegenläufigen Wechselstromhalbwellen versorgt, wodurch jede der

Elektroden alternierend einmal Kathode und einmal Anode ist, es ergibt sich ein

pulsierender Betrieb (Oberbegriff des Anspruchs 1 iVm Sp 4 Z 15 bis 19). Damit

arbeitet zwangsläufig nur jeweils eine der beiden Elektroden als Kathode.

Im Unterschied zum Verfahren nach Anspruch 1 wird die Frequenz der Spannung

nicht zwischen 1 kHz und 1 MHz eingestellt, sondern im niederfrequenten Bereich,

vorzugsweise zwischen 50 und 100 Hz (Ansprüche 1 und 8). Dieser Unterschied

kann aber die erfinderische Tätigkeit nicht tragen, denn das Arbeiten im Mittelfrequenzbereich – typischerweise 10 bis 150 kHz – war am Anmeldetag des Streitpatents beim Bipolar-Puls-Sputtern bekannt und die Fachwelt hat sich hiervon

Vorteile und neue Entwicklungsmöglichkeiten erwartet ((D3) S 286 Zusammenfassung u S 292 Ausblick iVm S 288 li Sp Abs 2, mi Sp Abs 1 u re Sp Abs 1).

Für das letzte Merkmal des geltenden Anspruchs 1, die Wahl der Betriebsparameter in der Weise, daß die Elektroden im Betrieb zumindest bereichsweise von

einem Beschichtungsmaterial bedeckt werden, werden in der Streitpatentschrift

keine spezifischen Bedingungen mitgeteilt. Vom Anspruchswortlaut sind daher die

bei reaktiven Sputterverfahren üblichen Ausbildungen von Verbindungen wie Oxiden oder Nitriden auf Teilflächen der Sputterkathoden umfaßt. Diese der Fachwelt

völlig geläufige Erscheinung kann ebenfalls keinen Beitrag zur erfinderischen Tätigkeit leisten.

Anspruch 1 kann daher mangels erfinderischer Tätigkeit seines Gegenstandes

keinen Bestand haben. Mit ihm fallen die Ansprüche 2 bis 29, da über das Streitpatent nicht in Teilen entschieden werden kann.

Schröder

Wagner

Harrer

Schuster

Fa/Na