Rechtsprechung / BPatG / 2004
BPatG Beschluss vom 22.12.2004 – 14 W (pat) 19/02
14. Senat
BUNDESPATENTGERICHT
14 W (pat) 19/02 _______________________
(Aktenzeichen)
B E S C H L U S S
In der Beschwerdesache
betreffend die Patentanmeldung 197 23 618.9 - 51
…
hat der 14. Senat (Technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts in
der Sitzung vom 22. Dezember 2004 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters
Dr. Schröder sowie der Richter Dr. Wagner, Harrer und der Richterin Dr. Schuster
beschlossen:
Der angefochtene Beschluss wird aufgehoben und das Patent erteilt. 10.99
Bezeichnung: Maske und Verfahren zu ihrer Herstellung zum
Belichten von flexographischen Platten
Anmeldetag: 5. Juni 1997
Die Priorität der Anmeldung in den USA vom 5. Juni 1996 ist in
Anspruch genommen (Aktenzeichen der Erstanmeldung: US
658 785).
Der Erteilung liegen folgende Unterlagen zu Grunde:
Patentansprüche 1 bis 22, eingegangen am 30. November 2004,
Beschreibung Seiten 1 und 2, eingegangen am 30. November 2004,
Beschreibung Seiten 3 bis 8, eingegangen am 14. September 2004,
2 Blatt Zeichnungen mit Figuren 1 bis 4, eingegangen am 5. Juni 1997.
G r ü n d e
I
Mit Beschluss vom 11. September 2001 hat die Prüfungsstelle für Klasse B41C
des Deutschen Patent- und Markenamts die Patentanmeldung 197 23 618.9 - 51
mit der Bezeichnung
„Maske und Verfahren zum Belichten von flexographischen Platten“
zurückgewiesen.
Die Zurückweisung ist im Wesentlichen damit begründet, dass der Gegenstand
des dem Beschluss zu Grunde liegenden ursprünglichen Patentanspruchs 1
gegenüber der Druckschrift
(1) US 4 283 484
nicht neu sei. Daraus sei eine Maske mit lichtdurchlässigen und lichtundurchlässigen Bereichen bekannt, die zum Belichten eines Bildbereichs auf einer ein
Photopolymer aufweisenden Hochdruckplatte eingesetzt werde. Der Fachmann
lese mit, dass eine solche Maske auch zur Belichtung von flexographischen
Druckplatten einsetzbar sei. Zur Vermeidung von Druckbildverzerrungen werde
die Maske um einen Lichtmodifizierer ergänzt und so die Belichtung der
Druckplatte modifiziert.
Gegen diesen Beschluss hat die Anmelderin Beschwerde eingelegt. Sie verfolgt
ihr Patentbegehren mit den im Tenor genannten Unterlagen weiter.
Die Patentansprüche 1 und 17 lauten:
„1. Maske in Form einer Schicht mit durchlässigen und undurchlässigen
Bereichen für eine Anwendung beim Belichten eines Bildbereiches auf
einer flexographischen Druckplatte mit abbildendem Licht, wobei die
Platte (1) zum Ausbilden belichteter Bereiche ein auf abbildendes Licht
ansprechendes Photopolymer aufweist, und unmittelbar
in der
Maskenschicht (5) ein Lichtmodifizierer (9) ausgebildet und/oder
erzeugt worden ist, der relativ zu durchlässigen und undurchlässigen
Bereichen zur Belichtungsmodifizierung und Kompensierung von
Verzerrungseffekten angeordnet ist.
17. Verfahren zum Herstellen einer Maske nach einem der Ansprüche 1
bis 16 für eine photoempfindliche flexographische Platte mit einem
Photopolymer zum Korrigieren von Verzerrungen, aufweisend:
a)
Bestimmen von Strukturelementen (10, 11, 12), die eine
Korrektur für eine Verzerrung oder Isolierung erforderlich
machen; und
b)
Ausbilden von Lichtmodifizierern (9) in der Maske (5), die für
die Korrektur erforderlich sind.“
Die Ansprüche 2 bis 16 sind auf Weiterbildungen der Maske nach Anspruch 1
gerichtet; die Ansprüche 18 bis 22 gestalten das Verfahren zum Herstellen der
Maske nach Anspruch 17 weiter aus.
Die Anmelderin hat zur Begründung ihrer Beschwerde schriftsätzlich vorgetragen,
dass die nunmehr beanspruchte Maske in Form einer Schicht und das Verfahren
zum Herstellen derselben nach den geltenden Ansprüchen 1 und 17 gegenüber
dem Stand der Technik (1) neu sei und auch auf einer erfinderischen Tätigkeit
beruhe, da dort mit praktisch zwei Masken gearbeitet werde.
Sie beantragt sinngemäß,
den angefochtenen Beschluss aufzuheben und das Patent mit den
im Beschlusstenor aufgeführten Unterlagen zu erteilen.
Wegen weiterer Einzelheiten, insbesondere wegen des Wortlauts der Ansprüche 2
bis 16 und 18 bis 22, wird auf den Inhalt der Akten verwiesen.
II
1.
Die Beschwerde ist zulässig (§ 73 PatG); sie hat auch Erfolg.
2.
Bezüglich der Offenbarung der Maske nach Anspruch 1 bestehen keine
Bedenken, da deren Merkmale aus dem ursprünglich eingereichten Anspruch 1
iVm Seite 4 Absatz 2 der ursprünglichen Beschreibung herleitbar sind. Die
geltenden Ansprüche 2 bis 5 sind aus den ursprünglichen Ansprüchen 2 bis 5 iVm
S 7 Abs 2 der ursprünglichen Beschreibung herleitbar; die Ansprüche 6 bis 9
ergeben sich sinngemäß aus den ursprünglichen Ansprüchen 7, 8 und 19 iVm S 6
Abs 2 der ursprünglichen Beschreibung. Den geltenden Ansprüchen 10 bis 22
liegen die ursprünglichen Ansprüche 16, 13, 14 und 24 bis 33 zu Grunde.
3.
Die Neuheit der Maske nach dem geltenden Patentanspruch 1 ist gegeben.
In der Entgegenhaltung (1) ist keine Maske mit sämtlichen im Anspruch 1
aufgeführten Merkmalen beschrieben.
4.
Die Maske in Form einer Schicht zum Belichten einer flexographischen
Druckplatte beruht auch auf einer erfinderischen Tätigkeit.
Der Anmeldung liegt nach den Angaben von Seite 1, letzter Absatz der geltenden
Unterlagen die Aufgabe zu Grunde, eine verbesserte Maske zu schaffen, um in
der Lage zu sein, die ganze
flexographische Platte mit einem einzigen
Belichtungsvorgang zu belichten. Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Maske mit
folgenden Merkmalen:
a)
Die Maske in Form einer Schicht für eine Anwendung beim Belichten
eines Bildbereiches auf einer
flexographischen Druckplatte mit
abbildendem Licht besitzt durchlässige und undurchlässige Bereiche,
wobei die Druckplatte zum Ausbilden belichteter Bereiche ein auf
abbildendes Licht ansprechendes Photopolymer aufweist;
b)
unmittelbar in der Maskenschicht (5) ist ein Lichtmodifizierer (9)
ausgebildet und/oder erzeugt worden, der relativ zu durchlässigen und
undurchlässigen Bereichen
zur Belichtungsmodifizierung und
Kompensierung von Verzerrungseffekten angeordnet ist.
Die Entgegenhaltung (1) strebt wie die vorliegende Anmeldung an, bei einem
Verfahren für die Herstellung einer Druckplatte, die hochauflösend sein soll und
gute Druckqualitäten liefern soll, durch den Einsatz einer geeigneten Maske mit
einem einzigen Arbeitsschritt auszukommen (Sp 1 Z 45 bis 58). Zur Lösung der
Aufgabe wird dort vorgeschlagen, die Druckplatte dadurch zu erzeugen, dass eine
Negativ-Maske des Druckbildes mit einer Positiv-Maske teilweise überlagert wird
(Sp 2 Z 1 bis 4 iVm Ansp 1). Durch eine geeignete Ausformung oder Anordnung
der Positiv-Maske modifiziert diese den Lichteinfall auf das Photopolymer durch
die Negativ-Maske, dh sie übt die Funktion eines Lichtmodifizierers aus (Sp 2 Z 4
bis 12). Um die Registerhaltigkeit der übereinander angeordneten Masken
sicherzustellen, werden in (1) verschiedene Methoden vorgeschlagen, wobei die
beiden Masken auch zusammenlaminiert werden können (Sp 2 Z 26 bis 31). In
jedem Fall liegen aber getrennte, übereinander gelagerte Schichten vor. Damit
sind die Merkmale a. und b. gemäß vorstehender Merkmalsanalyse bei (1) nicht
erfüllt.
Anregungen dahingehend, die Maske in Form einer Schicht auszubilden und den
Lichtmodifizierer unmittelbar
in der Maskenschicht vorzusehen, erhält der
Fachmann aus (1) nicht.
Die von der Anmelderin selbst genannte US 5 262 275 geht nicht über den oben
genannten Stand der Technik hinaus und vermittelt dem Fachmann somit keine
weitergehenden Anregungen.
Nach alledem ist der Gegenstand des geltenden Patentanspruchs 1 gegenüber
dem Stand der Technik neu und beruht auch auf einer erfinderischen Tätigkeit, so
dass der Anspruch gewährbar ist.
Der nebengeordnete Anspruch 17 ist auf ein Verfahren zum Herstellen einer
Maske für eine photoempfindliche flexographische Platte nach einem der
Ansprüche 1 bis 16 gerichtet. Bezüglich Neuheit und erfinderischer Tätigkeit
gelten für ihn die oben dargelegten Gesichtspunkte gleichermaßen, so dass dieser
Anspruch ebenfalls gewährbar ist.
Das Gleiche gilt für die auf den Patentanspruch 1 rückbezogenen Ansprüche 2 bis
16 sowie für die auf den Patentanspruch 17 rückbezogenen Ansprüche 18 bis 22,
die jeweils weitere, über Selbstverständlichkeiten hinausgehende Ausführungsformen betreffen.
Schröder
Harrer
Wagner
Schuster
Na