BPatG Beschluss vom 16.06.2005 – 14 W (pat) 350/03

BUNDESPATENTGERICHT

14 W (pat) 350/03 _______________________

(Aktenzeichen)

…

B E S C H L U S S

In der Einspruchssache

betreffend das Patent 100 46 810

hat der 14. Senat (technischer Beschwerdesenat) des Bundespatentgerichts

in der Sitzung vom 16. Juni 2005 unter Mitwirkung des Vorsitzenden Richters

Dr. Schröder, der Richter Dr. Wagner und Harrer sowie der Richterin Dr.

Schuster

beschlossen:

Das Restpatent 100 46 810 wird mit folgenden 10.99

Unterlagen beschränkt aufrechterhalten:

Patentansprüche 1 bis 11, eingegangen am 28. Mai 2004,

Beschreibung Spalten 1 bis 5 gemäß Patentschrift,

Figuren 1 bis 3 gemäß Patentschrift.

I

Die Erteilung des Patents 100 46 810 mit der Bezeichnung

„Verfahren zur Herstellung eines wärmereflektierenden Schichtsystems

für

transparente Substrate und danach hergestelltes

Schichtsystem“

ist am 28. Mai 2003 veröffentlicht worden.

Gegen dieses Patent ist am 26. August 2003 Einspruch erhoben worden. Der

Einspruch ist unter Hinweis auf die Druckschriften

(1) DE 44 07 502 A1

(2) CH 684 643 A5

(3) DE 197 19 542 C1

(4) DE 32 49 017 C2

(5) DE 195 38 046 A1

(6) DE-AS 1 156 289

(7) DE 39 41 027 C2 und

(8) DE 196 04 699 C1

auf die Behauptung gestützt, dem Patent mangele es an der erfinderischen

Tätigkeit.

Die Einsprechende hat ihren Einspruch mit Schriftsatz vom 3. Juni 2005 zurückgezogen; sie ist nicht mehr am Verfahren beteiligt.

Die Patentinhaberin verfolgt nach Teilung ihres Patents ihr Restpatent mit den am

28. Mai 2004 eingegangenen Patentansprüchen 1 bis 11 weiter, von denen die

Ansprüche 1 und 6 wie folgt lauten:

„1.

Verfahren zur Herstellung eines wärmereflektierenden

Schichtsystems für transparente Substrate, insbesondere

Glas, bestehend aus

a) mindestens einer Entspiegelungsschicht,

b) mindestens einer elektrisch hoch leitfähigen Funktionsschicht

aus Silber und

c) mindestens auf einer Seite der Funktionsschicht aufge

brachten

metallischen Blockerschicht sowie

d) einer Entspiegelungs- oder Deckschicht,

e) wobei die Schichten durch Aufdampfen oder Sputtern im

Vakuum aufgebracht werden,

dadurch gekennzeichnet,

f) dass die Zuführung der aufzubringenden Metallteilchen für die

Blockerschicht während der Beschichtung so geregelt wird, dass

aus dem Silber der Funktionsschicht und dem Metall der Blockerschicht eine Gradientenschicht als Blockerschicht gebildet

wird,

g) dass bei der Herstellung einer Entspiegelungsschicht aus mehreren Metalloxid-Einzelschichten die Zuführung der aufzubringenden Metalloxidteilchen für die Einzelschichten so geregelt wird,

dass eine Gradientenschicht gebildet wird und

h) dass bei der Herstellung der Gradientenschichten die Regelung

derart erfolgt, dass sich der Anteil des Schichtmaterials der in der

Beschichtungsfolge zuerst aufzubringenden Schicht von 100 %

auf 0 % und gegenläufig der Anteil des Schichtmaterials der darauf folgenden Schicht von 0 % auf 100 % ändert.

6. Wärmereflektierenden Schichtsystem, hergestellt nach Anspruch 1,

bestehend aus

-

-

-

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-

mindestens einer Entspiegelungsschicht,

mindestens einer Funktionsschicht aus Silber,

mindestens auf einer Seite der Funktionsschicht aufgebrachten metallischen Blockerschicht

sowie mindestens einer Entspiegelungs-, Haft-, Schutz-

und/oder Deckschicht,

dadurch gekennzeichnet, dass

-

-

die Blockerschicht (1) eine Gradientenschicht aus einem Metall oder einer Metalllegierung und Silber ist,

die Entspiegelungsschicht, wenn sie aus mehreren Einzelschichten (3;4) besteht, eine Gradientenschicht aus den

Metalloxiden der Einzelschichten ist und

-

sich der Anteil des Schichtmaterials der einen Schicht zur

anderen Schicht über seine Dicke von 100 % auf 0 % und

gegenläufig der Anteil des Schichtmaterials der anderen

Schicht gegenläufig von 0 % auf 100 % kontinuierlich oder

diskontinuierlich ändert.“

Zum Wortlaut der unverändert geltenden Ansprüche 2 bis 5 und 7 bis 11 wird auf

die Streitpatentschrift verwiesen.

Die Patentinhaberin beantragt mit Schriftsatz vom 10. Juni 2005,

den Einspruch abzuweisen und nach Aktenlage zu entscheiden.

Wegen weiterer Einzelheiten wird auf den Akteninhalt verwiesen.

II

1. Der Einspruch war frist- und formgerecht erhoben und mit Gründen versehen,

somit zulässig.

2. Das Verfahren war nach Zurücknahme von Amts wegen durch den Senat

fortzusetzen (§ 61 Abs 1 Satz 2 PatG iVm § 147 Abs 3 Satz 1 PatG). Die

Überprüfung durch den Senat hat ergeben, dass die geltenden Ansprüche zulässig sind und ihre Gegenstände gegenüber den im Verfahren befindlichen

Entgegenhaltungen Neuheit sowie erfinderische Tätigkeit aufweisen.

Die Ansprüche haben somit Bestand.

Schröder

Wagner

Harrer

Schuster

Na